光伏废水来源.docx

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1、光伏废水来源光伏废水主要来源于硅棒在切断、磨削、切片以及硅片在研磨、腐蚀、抛光等过程产生的助剂废液和清洗废水，其处理难点主要包括：有机物、悬浮物浓度高，并含有氟离子及酸碱等污染物。光伏废水一般分为四种：有机硅废水、切磨抛废水、多晶硅废水、硅片清洗废水。1 .有机硅废水，由氯丙烷在粕酸作催化剂的条件下，与三氯硅烷加成反应生成氯丙基三氯硅烷然后经粗精镭后产生的残液和氯丙烯瓶中的残液，用水冲洗产生的，废水中主要物质为:三氯硅烷、氯丙烷和HCI,氯丙烷和HC1的来源是氯丙烯水解产生的，故废水呈酸性，灰的色乳状有降低，但有胶体存在，主要是硅酸、偏硅酸和硅醇分子间脱水聚缩而成聚硅氧烷引起的。2 .切磨抛废

2、水来自三个工序：切片工序主要为：粘石腊,冷却水等,废水中主要物质为：石腊,硅粉。磨片工序的磨液成分为：洗液和肥皂制成浮液。废水中主要物质为：表面活性剂碓粉。抛光工序的抛光液的成分：环烷烧。废水中主要物质为：硅粉和燃类有机物。三种废水混合中灰色有乳状体。3 .多晶硅废水：是三氯硅烷还原生成多晶硅过程中产生的尾气经水淋洗产生的。主要反应为:SiHCI3+H2=Si+3HCI（产品反应）SiHCI3+H2O=二SiO2+3HC1（尾气淋洗)废水中主要物质为:SiC)2、HCK硅醇及脱水成聚硅氧烷和硅酸,偏硅酸等。废呈强酸性,SQ2的粒径极小,大部分聚成团漂浮的水面。4 .硅片清洗废水：清洗废水由以下几部分清洗过程产生：(I),SPM(H2SO4、H2O2、H20)的混合液清洗用H2SO4溶液和H2O2溶液，用SPM清洗硅片可去除硅片表面的有机污物和部分金属。此工序会产生硫酸雾和废硫酸。(2)DHF清洗用一定浓度的氢氟酸去除硅片表面的自然氧化膜，此过程产生氟化氢和废氢氟酸。(3)APM清洗，附着在硅片表面的颗粒和金属也随腐蚀层而落入清洗液内，从而产生氨气和废氨水。