微电子生产设备外延炉氧化扩散退火设备腐蚀清洗机(槽式)单机试运转及验收范例.docx

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1、微电子生产设备外延炉、氧化/扩散/退火设备、腐蚀清洗机(槽式)单机试运转及验收范例试运转前应检查下列项目,并应在符合要求后进行单机试运转:1环境洁净度等级应为5级,环境温度应为22C05C,相对湿度应为45%5%;2三相交流电源:AC380V10,频率501Hz0UPS电源开启正常;3设备本体接地良好,接地电阻W1Q;4设备控制系统、气路系统、硅片传输系统、反应腔室、水冷/风冷系统、电源柜、排气系统等均可正常运行;5二次配管系统的连接、标识、压力、阀门状态等检查正常;6驱动氮气压力应为0.50.7MPa;7普通氮气压力应为0.61.2MPa;8工艺冷却水进回水压差应大于0.3MPa,单腔合计水

2、流量应大于831PM。BUbbIer水流量正常,温度1820C。,控温精度0.1C。干泵水流量2.53.0S1M;9所有安全互锁功能正常开启;10正常上电开机后无故障报警。E.7.2验收项目应符合下列要求:1气柜氢检漏率1E-8mbar1s,正压漏率0.1%/h(12h,20psi);2工艺腔、传输腔均保压合格,氢检合格;3额定风速时,上风压和下风压都应大于IOOPa;4反应腔室工艺温度控制精度满足设计要求;5传输系统稳定可靠,连续500片传送无故障,晶圆表面无划伤;6整机系统控制正常,安全防护功能正常。腐蚀清洗机(槽式)试运转前应检查下列项目,并应在符合要求后进行单机试运转:1环境洁净度等级

3、应为5级,环境温度应为22C05C;2三相交流电源:AC380V10,频率501Hz;3设备本体接地良好,接地电阻W1。;4系统控制柜、化学药液供给系统、传输移载系统、加热控制系统、气路系统、快速排气系统、排风装置等均可正常运行。5去离子水管路应采用PFA管,去离子水压力范围0.2504Mpa,流量不小于351min;6化学药液管路应采用PFA管,手阀开关位置检查正常;7排水管路应采用PFA管,管径不小于50mm;8氮气管路应采用PFA管或316AP管,接口形式为卡套,氮气压力范围0.250.7Mpa;9去离子水自动注入功能正常;10漏液检测功能正常;11废液排放功能正常;12排风装置运行正常

4、;13所有安全互锁功能正常开启;14正常上电开机后无故障报警。验收项目应符合下列要求:1排风口直径应为50200mm,每个排风口排风量不应小于85001min;2传送移载系统工作正常,机械手抖动频率应为3060次min,可设定,抖动行程宜为Ic)mm;3去离子水快速注入,注入完成时间不应大于150s;4去离子水快速排放,排放完成时间不应大于6s;5清洗槽加热控制系统满足设计要求;6氮气干燥系统性能满足设计要求;7整机系统控制正常,安全防护功能正常。氧化/扩散/退火设备试运转前应检查下列项目,并应在符合要求后进行单机试运转:1环境洁净度等级应为5级,环境温度应为22C0.5C,相对湿度应为45驰

5、5%;2三相交流电源:AC380V+10,频率501Hz;3设备本体接地良好,接地电阻不应大于1Q;4系统控制柜、气路柜、硅片移载系统、功率控制系统、水冷系统、净化工作台、排毒箱、排气系统等均可正常运行;5二次配管系统的连接、标识、压力、阀门状态等检查正常;6湿度传感器、室内温度传感器、风压传感器、空气质量传感器应设置合理,工作正常;7工艺冷却水压力应为0.5MPa,流量应为5101min;8压缩空气压力应为0.40.7MPa,流量应为10201min;9设备气路柜风量应为1015rr7min,排毒箱排风量应为812m3mim10所有安全互锁功能正常开启;11正常上电开机后无故障报警。验收项目应符合下列要求:1设备的温度传感器、压力传感器、水流开关、水流量计、真空规管工作应显示正常。2反应室/炉体温度控制性能和升降温速度满足设计要求;3设备晶舟移载系统、推拉舟装置应工作正常;4整机系统控制正常,安全防护功能正常。

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