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1、液态光阻焊油墨曝光成像感光油墨接受紫外光照射时,光引发剂分解为自由基,从而攻击树脂,形成自由基源连续使用。光源老化和积尘等原因,必须坚持每班做二次光楔尺检查制度并做好检查结果记录。必要时,还应定期用光能量计(Radio meter)来辅助测量所设光能量是否符合要求。以一片透明的底片覆在光能量计(例如UV-35型)上,打开电源开关并将显示数字变零。将光能量计置于框架内,关框架抽真空曝光,检查其曝光能量的读数是否在感光油墨要求的范围内。重复这个操作,分别检查上框架上下灯和下框架的上下灯达到涂层膜表面的曝光能量。每一个框架上都作四个角和中央部位的能量读数,可以了解到上下二支曝光灯能量在框架上的分布情
2、况,通常,每个框架四个角和中央的能量相差在20%以内为合格。曝光抽真空同使用光成像干膜有所不同,并非越大越好,不一定要求95%以上。待抽气完全后,真空表显示60mHg以上就可以了。有些特殊的板子,曝光后发现粘底片,显影后有底片印,这时可降低抽真空度到60-80%,对改善质量有好处。曝光框架内应有导气条,到抽真空稳定后才推框架去曝光。曝光时使用的底片宜用重氮片,片基0.175mm,使对位方便些。每套底片曝光30次,应作一次检查,查有无碎片,划伤,污点,灰尘,对曝光框架亦同样作一次清洁。底片使用次数大致在300-400次/套,也有要求600-800次/套才报废。底片药膜面通常都贴上透明的保护膜,以
3、避免曝光后印制板上产生底片印;国外某些品牌的重氮片,对防污染有较强的能力,说明不必贴保护膜亦可得到满意的曝光效果。整个曝光房都应在黄光灯下操作,恒温恒湿防尘。曝光后印制板应停留15分钟后才显影,以使涂层膜充分交联。工作完毕后,关闭曝光灯、曝光机各开关和电源,做好设备和工艺记录。3.显影1)工艺条件 各种感光油墨的显影条件基本一致。即无水碳酸纳(或钾)1%,30,显影喷淋压力2. 0-3.0kg/cm2 (20psi以上),传送速度(100-150cm/分)o显像点(俗称露铜点)为30-4096 (Break point),即板子通过显影段长度约1/3,印制板应露出焊盘。水洗段起码应有二段,三四
4、段更好,板子水洗后应即时烘干。源连续使用。光源老化和积尘等原因,必须坚持每班做二次光楔尺检查制度并做好检查结果记录。必要时,还应定期用光能量计(Radio meter)来辅助测量所设光能量是否符合要求。以一片透明的底片覆在光能量计(例如UV-35型)上,打开电源开关并将显示数字变零。将光能量计置于框架内,关框架抽真空曝光,检查其曝光能量的读数是否在感光油墨要求的范围内。重复这个操作,分别检查上框架上下灯和下框架的上下灯达到涂层膜表面的曝光能量。每一个框架上都作四个角和中央部位的能量读数,可以了解到上下二支曝光灯能量在框架上的分布情况,通常,每个框架四个角和中央的能量相差在20%以内为合格。曝光
5、抽真空同使用光成像干膜有所不同,并非越大越好,不一定要求95%以上。待抽气完全后,真空表显示60mHg以上就可以了。有些特殊的板子,曝光后发现粘底片,显影后有底片印,这时可降低抽真空度到60-80%,对改善质量有好处。曝光框架内应有导气条,到抽真空稳定后才推框架去曝光。曝光时使用的底片宜用重氮片,片基0.175mm,使对位方便些。每套底片曝光30次,应作一次检查,查有无碎片,划伤,污点,灰尘,对曝光框架亦同样作一次清洁。底片使用次数大致在300-400次/套,也有要求600-800次/套才报废。底片药膜面通常都贴上透明的保护膜,以避免曝光后印制板上产生底片印;国外某些品牌的重氮片,对防污染有较
6、强的能力,说明不必贴保护膜亦可得到满意的曝光效果。整个曝光房都应在黄光灯下操作,恒温恒湿防尘。曝光后印制板应停留15分钟后才显影,以使涂层膜充分交联。工作完毕后,关闭曝光灯、曝光机各开关和电源,做好设备和工艺记录。3.显影1)工艺条件 各种感光油墨的显影条件基本一致。即无水碳酸纳(或钾)1%,30,显影喷淋压力2. 0-3.0kg/cm2 (20psi以上),传送速度(100-150cm/分)o显像点(俗称露铜点)为30-4096 (Break point),即板子通过显影段长度约1/3,印制板应露出焊盘。水洗段起码应有二段,三四段更好,板子水洗后应即时烘干。2)影响因素 显影液浓度太高或太低,不一定能显影得干净,还可能导致涂层膜呈膨胀状态。温度太高,涂层膜易被侵蚀,失去光泽。显影喷淋压力是重要的