制药 原料药工艺流程及产污环节.docx

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1、A.1发酵类附录A（资料性附录）制药工业典型生产工艺流程及产污节点G-废气；W-废水；S-固体废物；N-噪声图A.1发酵类制药生产工艺流程及产污节点G-废气；W-废水；S-固体废物；N一噪声图A. 2化学合成类制药生产工艺流程及产污节点G工艺废气N G工2废气 N OXRaH GIXeHN GtXaHSHM”落间网收Ct水*勤6（风机,空修机.M 冷机、G废气；W-废水：S-固体废物：N一噪声图A. 3提取类制药生产工艺流程及产污节点图A.4制剂类制药生产工艺流程及产污节点附录B（资料性附录）制药工业废水来源及污染物浓度水平B.1发酵类表B. 1发酵类制药废水来源及污染物浓度水平工序生产设施废

2、水类型主要污染物种类及浓度（mgL）排放规律发酵发酵罐、种子罐、 其他设备清洗水CDcr1000; NH3-N100间歇排放地面清洗水CODcr500: NH-N 10000； NH5-N: 300-1000批次排放设备清洗水CODc1: IoOO 10000； SS500间歇排放地面清洗水CODc1500: NH3-N5O间歇排放提取吸附罐、结晶罐、 浸提设备、萃取罐、 其他提取废水CODa: 2000-10000批次排放设备清洗水CDcr1000; NH3-N100间歇排放地面清洗水CODcr500: NH-N50间歇排放精制结晶罐、脱色罐、 其他精制废水CODcr： 2000-10000

3、： NHvN ： 200-5000批次排放设备清洗水CDcr1000; NH3-N100间歇排放地面清洗水CoDCrV500； NH-N50间歇排放干燥真空干燥塔、双锥 干燥器、沸腾床、 水环真空泵、其他水环真空泵排水CODcr： 200-5000连续排放设备清洗水CODcr 1()(X); NH3-N100间歇排放地面清洗水CODcr500: NH-N50间歇排放成品磨粉机、分装机、 水环真空泵、其他水环真空泵排水CODcr： 200-5000连续排放设备清洗水CDcr1000: NHa-NVIOO间歇排放地面清洗水CDcr500; NHvN 100()0；含盐量:2000 I(X)(X)批

4、次排放水环真空泵排水CODcr： 200-5000连续排放设备清洗水CDcr1000; NH3-N100间歇排放地面清洗水CODcrV500： NH-N50间歇排放动力系统制水系统、循环水 系统、制冷系统、 空压系统等制水排水CDcr1000间歇排放冷却排水CDcr1000： SS100间歇排放B. 2化学合成类表B. 2化学合成类制药废水来源及污染物浓度水平工序生产设施废水类型主要污染物种类及浓度（mgL）排放规律反应反应釜、缩合釜、裂解釜、 其他设备清洗水CODtr 1000： NH3-N100间歇排放地面清洗水CODc500; NHj-N 1()000： NHa-N: 2005000；含

5、: 2000-5(X)00批次排放设备清洗水CODcr： IOOO-IOO(X)间歇排放地面清洗水CODcr500: NH3-N 10000； NH3-N: 200-5000；含: 200050000批次排放设备清洗水CODcr 1(X)0： NH3-N100间歇排放地面清洗水CODcr500; NH3-N50间歇排放精制结晶罐、脱色罐、其他精制废水CODcr： 2000IO(XX)； NH3-N: 2005000批次排放设备清洗水CDcr1000; NHj-N100间歇排放地面清洗水CODcr5(X): NH3-N5O间歇排放干燥真空干燥塔、双锥干燥、 沸腾床、水环真空泵、其 他水环真空泵排

6、水CODcr： 2005000连续排放设备清洗水CODcr1000; NH3-N100间歇排放地面清洗水CODcr500: NH3-N50间歇排放成品磨粉机、分装机、水环真 空泵、其他水环真空泵排水CODcr： 200-5000连续排放设备清洗水CDcr1000; NH3-N100间歇排放地面清洗水CODcr500: NH3-N 10000：含盐量：200050000批次排放水环真空泵排水CODcr： 200500()连续排放设备清洗水CODcriOOO; NHrNVloO间歇排放地面清洗水CODcr5(X); NH3-NV5O间歇排放动力 系统制水系统、循环水系统、 制冷系统、空压系统等制水

7、排水CODcr1000间歇排放冷却排水CODcr 1(XX); SS1(X)间歇排放表B. 3提取类制药废水来源及污染物浓度水平序生产设施废水类型主要污染物种类及浓度（mgL）排放规律清洗原料清洗设备清洗废水SS： 90-1000间歇排放提取浸提设备、其他提取废水动植物油：608000； BOD5: 16014200CODcr: 20040000批次排放设备清洗水CoDCrVIO00： NH-N1(X)间歇排放地面清洗水CODc500; NH3-N50间歇排放精制结晶罐、脱色罐、 其他精制废水CODcr: 200010000； NH3-N: 200500()批次排放设备清洗水CODcriOOO

8、; NH5-N100间歇排放地面清洗水CODcr5(X): NH3-N2000批次排放水环真空泵排水CODcr： 200-5000连续排放设备清洗水CODcr 1(X)0： NH-N1(X)间歇排放地面清洗水CODcr500: NHrNV50间歇排放B.4制剂类表B. 4制剂类制药废水来源及污染物浓度水平废水来源水质特点污染物浓度（mgL, pH无量纲）纯化水、注射用水制水设备排水主要为酸碱废水pH： 1 12包装容器清洗废水清洗废水污染物浓度很低，但水量较大CODcf100: SS50工艺设备清洗废水废水CoD浓度较高，但水量较小CODcr1500; SS150地面清洗废水污染物浓度低CDc

9、r400; SS200附录C（资料性附录）制药工业废气来源及污染物浓度水平表C.1制药工业废气来源及污染物浓度水平废气类型产生环节主要污染物种类及浓度 （mgm臭气浓度无量纲）排放规律发酵尾气发酵工序颗粒物：50臭气浓度：30008000VOCs： Vlo8、1000b间歇排放含尘废气粉碎、干燥、包装等工序颗粒物：100间歇排放工艺有机溶剂废气提取、精制、干燥、溶剂回收等 序VOCs: 150 2000间歇排放反应釜工序vocs： I(XX)IooOo间歇排放实验室工序VOCs： 100间歇排放酸碱废气使用盐酸、氨水调节PH工序氯化氢：100150 氨:80120间歇排放恶臭气体污水处理站氮：1-10、0.5-5d硫化氢：550、120d鬼气浓度：5000-100000 . IOoo500OdVOCs: 300400连续排放发酵菌渣等固废贮存场所氨：2550硫化氢:6K)臭气浓度：3OOO5OOOVOCs： 200600连续排放a大部分发酵尾气VoCS浓度;b某些大肠杆菌菌种发酵尾气VoCS浓度:C污泥处理区域污染物浓度；d污水处理区域污染物浓度。